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第110章 近接式光刻机微米级微调机构（第1页）

次日，早。

江阳醒来后，简单的洗漱完。

便立刻前往应物所。

到了地方。

在江阳进到所里，一路往半导体研究室走的时候。

不停有人和他打招呼，道：

“江教授好！”

“江教授，您今天来的好早啊！”

“江教授，我有个问题想请教你——”

面对众人的问好。

江阳放缓脚步，一一回应。

就在这时。

远处的王寿吾也看到了他，连忙小跑过来，道：

“江教授，您今天平时来的早许多呀！”

江阳颌首道：

“有了些新的想法，想跟您和黄教授、林教授讨论。”

闻言，王寿吾目光大亮，道：

“没问题，我这就去叫他们！”

不多时。

王寿吾带着黄琨和林岚因，来到办公室。

一进门。

他们便看到江阳正拿着一块小黑板。

在上面写下：

光学系统、精密机械、光刻胶与化学工艺。

林岚因眼神微凝，道：

“江教授您这是打算解决光刻机的问题了吗？”

一旁的黄琨。

神色同样振奋不已。

没办法。

原先使用的简易光刻机，效果几乎已经被压榨到极限。

他们再怎么去优化。

集成电路的集成度，都无法突破40。

江阳回过头，道：

“没错。”

“我也不瞒你们，前些天郭院长来找我，我夸下海口。

“说要研制1000w次每秒运算速度的计算机。”

他说完后。

王寿吾三人你看我，我看你，都以为是自己听错了。

1000w次每秒。

别说是他们。